مهندسان چینی اولین ماشین پیشرفته لیتوگرافی بومی را ساختند

صنعت نیمه رسانای چین با ساخت اولین نمونه اولیه دستگاه لیتوگرافی فرابنفش عمیق یا همان EUV به موفقیت بزرگی دست یافته است. این دستاورد پاسخی مستقیم به تحریم‌های سختگیرانه ایالات متحده است که دسترسی این کشور به ابزارهای پیشرفته ساخت تراشه را مسدود کرده بود. تکمیل این دستگاه گامی حیاتی به سوی خودکفایی در تولید پردازنده‌های مدرن و کاهش وابستگی به فناوری‌های غربی و زنجیره تامین جهانی محسوب می‌شود.

به گزارش رسانه اخبار تکنولوژی تکنا به نقل از South China Morning Post ، این ماشین پیشرفته توسط مهندسان شرکت شانگهای میکرو الکترونیکس (SMEE) توسعه یافته است و انحصار جهانی شرکت هلندی ASML را به چالش می‌کشد. اگرچه هنوز تا رسیدن به مرحله تولید انبوه فاصله وجود دارد اما ساخت نمونه اولیه نشان می‌دهد که متخصصان چینی بر چالش‌های پیچیده اپتیکی و فیزیکی غلبه کرده‌اند. این پیشرفت می‌تواند معادلات قدرت در بازار جهانی تراشه سازی را در سال‌های آینده به نفع پکن تغییر دهد.

وجود این اسکنر پیشرفته به سازندگان چینی اجازه می‌دهد تا در آینده تراشه‌های هفت و پنج نانومتری را به صورت مستقل تولید کنند. این موضوع از آن جهت اهمیت دارد که محدودیت‌های قبلی آن‌ها را در تکنولوژی‌های قدیمی‌تر محصور کرده بود. تایید عملکرد نهایی این ابزار راه را برای شرکت‌هایی مانند SMIC هموار می‌کند تا فرآیندهای ساخت خود را بدون نیاز به تامین‌کنندگان خارجی ارتقا دهند.