استارتاپ امریکایی مدعی جایگزینی لیتوگرافی High-NA EUV شد

یک استارتاپ آمریکایی با نام مستعار Substrate مدعی توسعه فناوری بسیار مخربی شده است. این شرکت ادعا می‌کند راهکارش می‌تواند به سلطه کامل ASML در بازار تجهیزات پیشرفته لیتوگرافی پایان دهد. فناوری این استارت‌آپ ظاهراً جایگزینی مستقیم برای دستگاه های گران‌قیمت High-NA EUV محسوب می‌شود.

به گزارش بخش صنایع نیمه هادی رسانه اخبار تکنولوژی و فناوری تکنا، ادعاهای این شرکت نوپا بسیار جسورانه است. آنها معتقدند فناوری جدیدشان صد برابر ارزان‌تر از دستگاه‌های چهارصد میلیون دلاری ASML خواهد بود. علاوه بر این گفته می‌شود این روش ده برابر سریع‌تر و ده برابر بهینه‌تر از نظر مصرف انرژی عمل می‌کند. این استارت‌آپ تاکید دارد که فناوری مذکور آماده تجاری‌سازی است.

این شرکت برای حفظ اسرار خود در حال حاضر در حالت مخفی فعالیت می‌کند. با این حال بنیان‌گذاران آن با کارشناسان برجسته صنعت از جمله کریس میلر نویسنده کتاب جنگ تراشه گفتگو کرده‌اند. این گفتگوها برای ارزیابی پتانسیل واقعی فناوری جدید انجام شده است.

کریس میلر ضمن ابراز تردید در مورد ادعای کاهش صد برابری هزینه‌ها اصل ایده را قابل قبول دانست. او توضیح داد که صنعت تراشه به شدت نیازمند یک جایگزین است. هزینه‌های لیتوگرافی EUV به قدری سرسام‌آور شده که ادامه این روند برای بسیاری از شرکت‌ها ناپایدار است.

راهکار ارائه شده توسط Substrate یک بهبود تدریجی بر فناوری EUV نیست. این استارت‌آپ ادعا می‌کند یک روش کاملاً جدید برای چاپ الگوهای روی ویفر سیلیکونی ابداع کرده است. این تغییر بنیادین می‌تواند کل زنجیره تامین نیمه‌هادی‌ها را متحول کند.

دولت ایالات متحده به این پیشرفت توجه ویژه‌ای نشان داده است. گزارش‌ها حاکی از علاقه وزارت دفاع و وزارت انرژی آمریکا به این پروژه است. دستیابی به یک فناوری داخلی می‌تواند به وابستگی استراتژیک آمریکا به یک تامین‌کننده خارجی یعنی ASML هلند پایان دهد. البته چین هم تلاش زیادی برای مهندسی معکوس دستگاه های ASML کرد اما ناکام ماند.

شکستن این انحصار برای امنیت ملی آمریکا و ایجاد تنوع در زنجیره تامین حیاتی تلقی می‌شود. این استارت‌آپ آمریکایی قصد دارد تا سال ۲۰۲۶ فناوری خود را برای تولید انبوه آماده کند. این یک جدول زمانی بسیار جاه‌طلبانه برای چنین فناوری پیچیده‌ای به شمار می‌رود.