اخبار دستگاه لیتوگرافی امروز : فوری و کوتاه

استارتاپ امریکایی مدعی جایگزینی لیتوگرافی High-NA EUV شد

یک استارتاپ آمریکایی با نام مستعار Substrate مدعی توسعه فناوری بسیار مخربی شده است. این شرکت ادعا می‌کند راهکارش می‌تواند به سلطه کامل ASML در بازار تجهیزات پیشرفته لیتوگرافی پایان دهد. فناوری این استارت‌آپ ظاهراً جایگزینی مستقیم برای دستگاه های گران‌قیمت High-NA EUV محسوب می‌شود. به گزارش بخش صنایع نیمه هادی رسانه اخبار تکنولوژی و […]

TSMC برای فرآیندهای 1 نانومتری، Pellicles را جایگزین ماشین‌های High-NA EUV می‌کند

شرکت صنایع نیمه‌هادی تایوان TSMC قصد دارد برای فرآیندهای پیشرفته ۱.۴ نانومتری و ۱ نانومتری خود به جای استفاده از دستگاه‌های بسیار گران‌قیمت لیتوگرافی فرابنفشHigh-NA EUV ، از پِلیکل‌های فوتومسک (photomask pellicles) استفاده کند. این تصمیم نشان‌دهنده یک تغییر راهبرد فنی مهم در مواجهه با هزینه‌های سرسام‌آور تجهیزات نسل جدید است. به گزارش بخش صنایع […]

تلاش چین برای شکستن انحصار فناوری تراشه با تخریب دستگاه ASML ناکام ماند

در اقدامی که نشان‌دهنده چالش‌های بزرگ چین در دستیابی به فناوری‌های پیشرفته نیمه‌هادی است، مهندسان چینی در تلاشی ناموفق برای مهندسی معکوس یک دستگاه لیتوگرافی پیشرفته ASML آن را خراب کردند. این اتفاق که در سکوت خبری رخ داد عمق وابستگی چین به فناوری غربی و پیچیدگی فوق‌العاده این تجهیزات را آشکار می‌سازد. به گزارش […]